2009.01.05更新

明けましておめでとうございます。本年もどうぞよろしくお願いいたします。
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無臭の芳香族チオールを用いたニトロベンゼンスルホニル基の脱保護反応
野出らはアミノ基の保護基あるいは活性基として利用されているノシル基の新しい脱保護法を報告しています。それによれば，無臭の芳香族チオールである4-メルカプト安息香酸を用いることによりノシル基が選択的に脱保護されています。この脱ノシル化反応は，温和な条件で進行しかつ副生成物の除去が容易な有用な脱保護法です。
M. Matoba, T. Kajimoto, M. Node, Synth. Communm., 2008, 38, 1194.
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